VHP 过氧化氢传感器：过程、低量程与区域监测

三项测量任务

任务	典型量程	重要性
过程监测	数十至约两千 ppm	控制注入并记录暴露阶段浓度，是经验证循环的核心。
残留／重新进入	约 0–10 ppm，分辨率达 0.1 ppm	显示空间何时通气至放行限值以下，通常为 1 ppm。
区域／泄漏监测	约 0–10 ppm	蒸汽经门、风管或穿墙处逸出时，警告相邻房间及走廊人员。

中间一项详见 通气与残余过氧化氢。本文侧重三类传感器的选择及准确性维护。

传感器类型

高量程过程传感器

常见两种方式。 薄膜电容传感器 响应水与过氧化氢混合蒸汽；结合温度测量，可同时报告 H₂O₂ 浓度、湿度和相对饱和度。 光学传感器 测量过氧化氢和水特征波长的红外或近红外吸收，无需气体接触敏感元件。两者均专为持续过程浓度暴露设计。

低量程电化学传感器

电化学单元产生与到达电极的过氧化氢量成比例的电流。灵敏且成本低，适合残留和区域监测。但长期高浓度暴露会使其饱和或缩短寿命，可能对其他氧化性气体响应，输出也受温度影响。

湿度为何影响测量

过氧化氢和水蒸汽共同冷凝。决定冷凝的不仅是 H₂O₂ 浓度，而是 相对饱和度 ，即混合蒸汽在表面温度下的相对饱和度。同时测量两者的传感器，或过氧化氢与湿度传感器配对，可使控制系统维持预期窗口并记录。其关系详见 VHP 浓度、湿度与冷凝.

普通湿度传感器在过氧化氢蒸汽中可能读错，因为许多会将过氧化氢当作水响应。检查空间内湿度传感器是否明确适用于 VHP。

布置

• 避开注入点。 该处浓度总是最高，不能代表其他空间。
• 在代表性位置，并尽可能在最不利区域 ，由分布测绘确定，常为房间远端或大型设备后方。
• 靠近最冷表面 ，若关注冷凝风险，因为表面越冷，相对饱和度越高。
• 避开直接气流 ，例如风机或送风扩散器直吹，以免读数波动。
• 区域监测仪设在呼吸高度 ，位于可能泄漏处外部：门框、传递口、公用工程穿墙处及回风路径。
• 隔离器和传递窗传感器通常由制造商固定在腔体或排风路径；应核实位置及是否经确认验证。

校准与检查

• 校准： 按制造商和风险评估规定间隔，通常 6–12 个月，以可追溯参考校准，维修或更换后也需校准。
• 响应测试： 关键使用前短时接触已知测试源，确认传感器仍有响应，尤其是保障人员安全的区域监测仪。
• 零点检查： 确认在洁净空气中读数归零。
• 记录漂移： 跟踪每次校准前误差。漂移日益增大的传感器接近寿命终点。
• 将传感器更换作为变更。 新过程传感器或移位传感器，可能需要核实循环仍满足经验证限值。

VHP 系统传感器应询问的问题

• 每个传感器测什么、量程多少、安装在哪里？
• H₂O₂ 和湿度传感器是否专为过氧化氢蒸汽设计？
• 校准周期多久、如何校准、能否现场完成？
• 读数是否随每次循环记录储存，能否打印或导出？
• 循环期间传感器故障或超量程时会怎样？